朱咸昌，本科毕业于华中科技大学，博士，副研究员，硕士生导师，2013年至今一直在微电子装备总体研究室工作，主要从事先进节点光刻物镜系统设计及像质调控方面的研究和科研工作。研究方向包括光刻曝光系统设计、自由曲面光学、相位成像等。

   2014年入选“西部之光“人才计划，中国科学院西部之光“西部青年学者”。 作为项目负责人，承担中科院西部青年学者项目、四川省重大科技专项项目、中国科学院科研装备研制项目，特种光刻曝光系统项目等课题研制；参与国家科技重大项目（02专项）、重大仪器专项等项目工作。通过相关项目支持，开展高精度投影光刻系统内部各项关键技术研究，实现高精度曝光系统像质调节和控制，在OPT LASER ENG等期刊发表论文10余篇，获授权发明专利30余项。

   招生方向为;微电子与智能光电仪器；高数值孔径光学系统设计,精密显微检测系统设计

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